High NA EUV
Samsung és ASML bővíti együttműködését a High NA EUV gyártásban
A Samsung Electronics és az ASML 2026. szeptember 8-án bejelentette stratégiai együttműködésük bővítését. A megállapodás középpontjában a High NA EUV litográfia, a 12…
Chipek és infrastruktúraA Samsung 2028-tól High NA EUV-val gyártana DRAM-ot
A Samsung és az ASML kibővíti stratégiai együttműködését a High NA EUV litográfia és a fejlett félvezetőgyártás területén. A Samsung 2028-tól tervezi bevezetni az ASML…